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等离子体的产生机理及其用途

发表日期:2019-07-08 文章编辑: 浏览次数:109

等离子体产生机理包括电离反应、带电粒子传输和电磁运动学。等离子体的产生和气化伴随着电子、粒子和中性粒子的碰撞反应。粒子在等离子体中的碰撞产生活性成分。由于等离子体处理的目的是改变表面或在表面形成一层合成材料,等离子体与材料的相互作用和最终反应产物的形成是等离子体处理全过程的主要关注点。
等离子体处理的过程仅限于具有多维参数的腔室.该燃烧室的大小决定了整个过程的经济性、反应质量、反应性能等参数。这些参数可使处理工艺具有竞争力,具有工业应用价值。反应室的运行受到许多限制,如等离子体类型和反应速率、处理效率和一些原材料的消耗。

在等离子体辅助制造业。等离子体通常用于以下目的:

(1)等离子体可以作为热源。

(2)等离子体可以作为化学催化剂

(3)等离子体可以作为高能离子电流和电子电流的来源。

(4)可用作溅射粒子源。

在许多过程中,等离子体的这些基本特征随处可见,逐渐形成以等离子体为处理手段的基础制造业。一个单一的处理过程或几个过程的组合可以为等离子体提供不同的应用。例如,在等离子体中,通过等离子体的化学合成产生新的化学品,或者通过颗粒的聚合在表面上沉积薄膜。

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